高功率窄帶濾光片

本產(chǎn)品是具有對(duì)選擇性光譜波長(zhǎng)透過(guò)或截止的光學(xué)元器件。鍍膜時(shí)同時(shí)采用直接和間接光控技術(shù),鍍膜方式跟進(jìn) ..

融石英基底截止帶寬大波長(zhǎng) 300-1200nm

本產(chǎn)品是具有對(duì)選擇性光譜波長(zhǎng)透過(guò)或截止的光學(xué)元器件。鍍膜時(shí)同時(shí)采用直接和間接光控技術(shù),鍍膜方式跟進(jìn)需求采用:離子束輔助沉積鍍膜(IAD)或離子濺射(IBS)。

介質(zhì)膜系，采用融石英基底替代有色玻璃，可以得到更高的透過(guò)率，承受更高功率。產(chǎn)品截止帶寬較大，從紫外到紅外(300-1200nm)截止，并從中截取需要高透過(guò)的波長(zhǎng)。

材料	UVFS(熱穩(wěn)定性好，承受功率更高)
設(shè)計(jì)波長(zhǎng)	452nm/532nm/637nm/905nm/1064nm(其他波長(zhǎng)可以按客戶需求設(shè)計(jì))
尺寸	φ12.73/φ25.45 (其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制 2-200mm)
透射波前	λ/4（成像畸變要求更高可選擇 λ/8)
表面光潔度	40/20(更高激光功率可選擇 20/10)
有效孔徑	＞85%
平行度	<1 分(更高要求<1 秒)
鍍膜指標(biāo)	T>93%，半高寬(FWHM):15-60nm
截止	OD＞3-5
損傷閾值	>20J/cm2@1064nm 20ns