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硅晶體

硅是常用的作為村底材料對紅外反射和片，在15um-8um。在9nm時(shí)強(qiáng)吸收也使得它不適合于CO2激光傳輸?shù)膽?yīng)用程序，但由于其高熱電導(dǎo)率和低密度，它經(jīng)常被用于激光鏡。硅也是一個(gè)有..

產(chǎn)品介紹

  • 特點(diǎn)功能

    硅是常用的作為村底材料對紅外反射和片，在15um-8um。在9nm時(shí)強(qiáng)吸收也使得它不適合于CO2激光傳輸?shù)膽?yīng)用程序，但由于其高熱電導(dǎo)率和低密度，它經(jīng)常被用于激光鏡。硅也是一個(gè)有用的發(fā)射機(jī)在20um范圍。

    技術(shù)指標(biāo)

    材料類型Material Type

    CZ FZ:N or P

    晶體定向 Crystal Direction

    ｛100｝｛111｝

    電阻率(Ohm/cm)Resistivity (Ohm/cm)

    0.003-50

    熱導(dǎo)系數(shù)(/KM.s)Thermal Conductivity(J/K.M.S)

    163.3@273K

    密度 Density

    2.33g/cm3at20C

    熔點(diǎn)Melting Point

    1410°C

    沸點(diǎn) Boiling Point

    3265°C

    努氏硬度 Knoop Hardness

    1150

    透光范圍Transparency Range

    1000nm-10000nm，30000nm-300000nm


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