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全電介質反射膜建立在多光束干涉基礎上。其效果與增透膜相反，是通過鍍上一層折射率高于基體材料的薄膜，簡單的說就是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍,使每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。通過參加疊加的各界面上的反射光矢量，調整振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。
全電介質反射膜相較于金屬反射膜，反光率得到較大提升，光損大幅減少，其性能得到提升
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